蒸发卷绕式镀膜机的介绍_无锡豪利OLE777真空技术有限公司
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蒸發卷繞式鍍膜機的介紹

發布時間:2018-10-29瀏覽次數:載入中...
     卷繞式鍍膜機30年來有了較大的發展,鍍膜產品廣泛用于裝飾、包裝、電容器等領域中,可鍍光學、電學、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%~2%,紙含水量更大,一般為5%-7%,經涂布烘干后,含水量仍有3%。由于基材含水量高,故鍍膜室由初始的單室發展到目前雙室或多室結構。蒸發源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結構應用普遍,其優點是:①可以蒸鍍放氣量較大的紙基材,并能保障鍍膜質量。紙放出的大量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小,使放出來的氣體不易進入蒸鍍室中;②單室結構必須配置較大的排氣系統才能保障蒸鍍時的工作壓力,而雙室結構中的蒸鍍室氣體量較小,可配小型抽氣機組,使設備成本降低,并節約能源;③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣,可縮短抽氣時間。
  
  卷繞式真空鍍膜機在結構上除了有一般鍍膜機所有的結構外,必須有一個為了實現連續鍍膜而設置的卷繞機構。由于被鍍基體是紙或塑料,放氣量較大,因此,在真空室的結構上又有單室和多室之分。
  
  卷繞機構設計中應考慮的幾個問題:
  
  ①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度,它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min,現在也只有80m/min~120m/min,在國外日本的EW系列產品中,其卷繞速度已達到300m/min,德國L.H公司生產的鍍膜機已達到600m/min,可見隨著鍍膜技術的發展,卷繞速度有待提高。
  
  ②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要,因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定,才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜(如電容器膜)尤為重要。
  
  ③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高,帶狀基材在卷繞鍍膜過程中,起褶和發生偏斜,嚴重時會造成基材的斷裂,使生產中斷,既影響生產效率,又浪費材料。因此,在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。
  
  卷繞鍍膜機真空抽氣系統分上室下室兩組,下室為蒸鍍室,要求真空度高,主泵多為油擴散泵。上室為基材卷繞室,要求真空度較低,為羅茨泵機組或擴散泵一羅茨泵一機械泵組。一般蒸鍍室要達到的真空度為1x10^-3Pa—2×10^-3Pa,而工作壓力為1×10^-2Pa—2×10^-2Pa,而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個數量級。有時卷繞鍍膜機以增擴泵(油擴散泵的一種)為主泵,它的極限壓力雖然不及油擴散泵,但其抽速范圍向高壓方向延伸一個數量級,非常適宜此類蒸發的鍍膜過程。
  
  目前國內卷繞式鍍膜機蒸發源多采用坩堝蒸發,其材質有氮化硼、石墨、鉬等。氮化硼由于電學及熱學性能好,使用壽命長,因而較為普遍地應用于卷繞鍍膜機中。每個坩堝的加熱功率為6kW—8kW,加熱電壓為10V—12V。坩堝數量由基材幅寬來確定。輻寬愈寬坩堝數量愈多。幅寬500mm時4只坩堝,800mm時7只坩堝,1300mm時12只坩堝。坩堝分布是不均勻的,中間部分間距大些,在基材邊緣處間距小,有的最外側坩堝與基材幅寬邊緣重合。

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